1974eiko / 真空装置の株式会社エイコー /

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Title	真空装置の株式会社エイコー /
Description	各種真空装置の開発/製作/販売研究施設への導入実績多数共同開発も承っております。電子顕微鏡の周辺装置や各種コンポーネントも販売
Keywords	真空装置,真空蒸着,eb蒸着,スパッタリング,有機蒸着,mbe

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WebSite	1974eiko.co.jp
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Location	Japan

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最終更新: 2022-09-10 06:28:03

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毎日の広告収入	US$2,360
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注: トラフィックと収益の値はすべて推定値です。

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TOP 装置情報 MBE装置スパッタリング装置真空蒸着装置 EB蒸着装置 ALD装置 PXP成膜装置 CVD装置有機蒸着装置接合装置特注装置電子顕微鏡周辺装置コンポーネンツセル EBガンスパッタガン RHEED装置マニュピュレーター・移動機構膜厚センサー・モニターラジカル源イオンガントランスファーロッドベーキング関連直線導入機・回転導入機ソフトウエア・コントローラ消耗品技術資料お問い合わせ会社案内採用情報サイトポリシー採用情報サイトポリシー東京：03-5297-1031 | 関西：078-327-7551 | 茨城：029-265-7401 受付：9：00～17:30（土日除く） TOP 装置情報 MBE装置スパッタリング装置真空蒸着装置 EB蒸着装置 ALD装置 PXP成膜装置 CVD装置有機蒸着装置接合装置特注装置電子顕微鏡周辺装置コンポーネンツ情報セル EBガンスパッタガン RHEED装置マニピュレータ/移動機構膜厚センサー/モニターラジカル源イオンガントランスファーロッドベーキング関連直線導入機/回転導入機ソフトウエア/コントローラ消耗品技術資料お問い合わせ会社案内代表取締役社長挨拶エイコーグループについて会社概要取引先沿革製品開発の歩みアクセスセレクティブスパッタリング装置 ESC-333L 超高真空対応のスパッタ装置です。複数のターゲットをスライドさせ、自由にターゲットの材料を選択してスパッタ成膜できます。 ALD装置 EALD-4 原子層堆積法により、１原子層レベルで膜厚を制御し、均一で高品質且つ段差被膜性の高い薄膜を形成することが可能です。 1.トップフロー方式を採用し、より均一な製膜が行えます。 2.独立した配管とMFCでチャンバーへ接続するこ […] イオンコーター IB-2/IB-3 この装置はTEM/SEMの試料作製用装置として、手軽に簡単に操作することができます。 1.33Pa程度の低真空でグローチャージを起こさせて残留ガスをイオン化し、このガスイオンのエネルギーを利用して金属をスパッタさせたり、 […] 2020年12月16日セレクティブスパッタリング装置 ESC-333L 2019年12月20日

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